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SI 500 ICP-RIE系统
SENTECH SI 500 ICP-RIE高端等离子体刻蚀系统采用感应耦合等离子体(ICP)源,具有低离子能量,实现低损伤的蚀刻和纳米结构。
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SI 500 C低温ICP-RIE系统
使用SI 500 C的低温蚀刻是感应耦合等离子体(ICP)处理的前沿设备
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SI 500 ALE系统
作为SI 500的延伸,SI 500 ALE在低工作压力和低ICP功率下提供稳定等离子体,实现低损伤蚀刻并实现精确射频控制。
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